該設備采用磁控濺射，膜層致密、細膩、硬度高、光澤好、柔性好。使用HiPIMS電源，成膜速度大幅提高。偏壓能有效提高膜層與機體的附著力，提高成膜速率和提高膜層品質。是鍍制金屬膜、化合物膜以及各種復合膜的理想設備。采用分子泵系統(tǒng)有效防止和解決長時間工作引起的擴散泵返油問題，更好的提高鍍膜質量，而且節(jié)省電能；平面磁控靶帶有靶門方便靶材更換和清洗，粑面配有自動擋板防止交叉污染和鍍前洗靶；整機操作方便可靠，可全自動化作業(yè)生產，并可儲存修改多種生產工藝制程。